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光催化氧化技术

  光化学及光催化氧化法是目前研究较多的一项高级氧化技术。所谓光催化反映,就是在光的作用下进行的化学反应。光化学反应需要分子吸收特定波长的电磁辐射,受激产生分子激发态,然后会发生化学反应生成新的物质,或者变成引发热反应的中间化学产物。光化学反应的活化能来源于光子的能量,在太阳能的利用中光电转化以及化学转化一直是十分活跃的研究领域。

  光催化氧化技术利用光激发氧化将氧气,二氧化氢等氧化剂与光辐射相结合。所用光主要为紫外光,包括UV-H2O2、UV-O2等工艺,可以利用处理污水中CHCI3、CCI4、多氯联苯等难降解物质。另外,在有紫外光的Fenton体系中,紫外光与铁离子之间存在着协同效应,是二氧化氢分解产生羟基自由基的速率大大加快,促进有机物的氧化去除。

  

  【分类】

  光降解通常是指有机物在光的作用下,逐步氧化成低分子中间产物,最终生成二氧化碳、水及其他的离子例如NO3-、PO43-、CI-等。有机物的光降解可分为直接光降解、间接光降解。前者是指有机物分子吸收光能后进一步发生的化学反应。后者是周围环境存在的某些物质吸收光能成激发态,再诱导一些列有机污染的反应。间接光降解对环境中难生物降解的有机污染物更为重要。

  光催化氧化技术

  利用光化学反应降解污染物的途径,包括无催化剂和有催化剂参与的光化学氧化过程。前者多采用氧和过氧化氢作为氧化剂,在紫外光的照射下使污染物氧化分解;后者又称光催化氧化,一般可分为均相和非均相催化两种类型。均相光催化降解中较常见的是以亚铁粒子、铁离子及过氧化氢为介质,通过photo-Fenton反应产生·HO使污染物得到降解,非均相光催化降解中较常见的是在污染体系中投加一定量的光敏半导体材料,同时结合一定量的光辐射,使光敏半导体在光的照射下激发产生电子-空穴对,吸附在半导体上的溶解氧、水分子等与电子-空穴作用,产生·HO等等氧化性极强的自由基,再通过与污染物之间的羟基加和、取代、电子转移等式污染物全部或接近全部矿化。

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